側麵孔壁的垂直程度與材料厚度有（yǒu）關，材（cái）料越薄越（yuè）垂直，材料越厚越不垂直，會存在（zài）斜邊現象

蝕刻（kè），通常（cháng）所指蝕刻也稱光化學蝕刻（Photochemical Etching），指通過曝光製版、顯影後，將要蝕刻（kè）區域的保護（hù）膜去除， 在蝕刻時接觸化學溶液，達到（dào）溶解腐蝕的作（zuò）用（yòng），形成凹凸或者鏤空成型（xíng）的效果。 蝕刻加工，是利用這一原理，對金屬（shǔ）進行定製加工的一門工藝手段。

蝕刻（kè）加工常見蝕刻的金屬材料有不鏽鋼、銅、鋁（lǚ）、鈦等金屬材（cái）料，金屬（shǔ）材質不同，蝕刻液也不同

化學蝕刻加工是一種（zhǒng）化學研磨工藝，與（yǔ）激光切割，金屬衝壓，放電加工（EDM）和噴水切（qiē）割等加工工藝相比，化學蝕刻（kè）加工（gōng）具有研（yán）發成本低，精度準確度高，可大（dà）批量快速生產，生產加工的成（chéng）品表麵光滑無毛刺，且不（bú）改變金屬原本（běn）材料特性

蝕刻加工材料厚度一般（bān）為0.02~2mm之間，材料越厚蝕（shí）刻加工的成本越高，材料尺寸受蝕刻設備寬度限製，一般蝕刻（kè）材料寬度不超過700mm，長度不超過2m